法国Xenocs公司倾情赞助PP’2018,获更高贡献奖
发布时间:2018-07-05 09:29   文章栏目:公司新闻   浏览次数:

   第十三届国际高分子物理学术研讨会(The 13th International Symposium on Polymer Physics, PP’ 2018)于2018年6月11-15日在西安曲江宾馆顺利举行,来自美国、加拿大、德国、英国、法国、西班牙、希腊、澳大利亚、日本、韩国、新加坡、中国和中国香港、中国台湾等14个国家和地区的350余专家学者齐聚在这里。本次研讨会由中国科学院化学研究所、美国阿克隆大学、德国马普高分子研究所和日本东京大学共同举办。大会主席由中科院化学所杨振忠研究员担任,共同主席有Stephen Z. D. Cheng 教授(美国阿克隆大学),Bonn Mischa教授(德国马普高分子所)和Mitsuhiro Shibayama教授(日本东京大学)。

大会开幕式.png

大会开幕式  

    本次研讨会的主题是理论与模拟,高分子结构与动力学,高分子表面与界面,高分子组装与超结构,多相多组分体系,功能高分子,工业高分子等,参会代表就这7个主题报道了他们的新研究成果,并就此展开了深入讨论。现场安排了5个分会场,近200个学术报告,108个墙报展示区。墙报展示时的气氛十分热烈,并得到了参会代表一致好评,最终评选出10个优秀墙报奖。

    法国Xenocs公司作为此次会议的赞助,在大会的两个会场分别设置了展台,主要展示了Xenocs公司的新产品Xeuss2.0 with Q-Xoom option,其主要优点体现在几个方面,1.样品的散射信号全程在真空中直接被探测器采集到,没有额外的插入部件产生杂散散射信号,2.样品与探测器的距离随时可以自动调节,可以完整采集从小角到广角的散射信号,3. 无直通光束遮挡板,可以更加精确的对样品散射信号做归一化,4.宇宙射线散射信号的消除,使得仪器的信噪比更高。会议期间,法国Xenocs公司CEO,Frederic BOSSAN受邀在大会上进行长达25分钟的学术报告,使与会者对其新产品有了更多的了解,报告结束后,有许多感兴趣的与会者莅临公司展台作进一步的交流。

    在会议闭幕式上,Frederic代表Xenocs公司,在晚宴上发表致辞。此外,Xenocs公司还得了PP’ 2018的更高贡献奖。

晚宴致辞

颁奖时刻.png

颁奖时刻

   关于北京优纳珂科技有限公司:

   北京优纳珂科技有限公司是德国Mar公司、法国Xenocs公司、 德国STOE公司、英国牛津OxfordCryosystems公司、瑞士Dectris公司在中国的驻华销售办事处及售后服务中心,专业从事X-射线散射及衍射结构分析类仪器及相关配件、耗材在国内推广、销售及研发与生产,我们经过不懈努力向客户提供全集成的,高附加值的全方位解决方案。

   关于法国Xenocs公司:

   专业致力于为纳米材料表征提供解决方案,专业提供小角和广角 X 射线散射技术,自2000年成立以来,以其X射线技术专长、高性能产品和优质的客户支持,在全球建立了良好的声誉。我们的科学家和工程师团队具有深厚的 X 射线技术背景,特别是 SAXS/WAXS 技术,专业致力于以优质服务为纳米材料研究提供前沿解决方案。

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